(CXMT 허페이 본사. 출처: CXMT)
중국 창신 메모리 테크놀로지 (CXMT)가 DDR5 메모리 수율을 상당한 수준까지 끌어올렸다는 소식입니다. 최근 중국발 보고서에 따르면 CXMT가 17nm 공정 (아마도 G4 공정) DDR5 메모리 칩의 수율이 90%에 도달했습니다.
일반적으로 반도체 수율은 시간이 지나면서 좋아지는 것이 일반적으로 80% 이상이면 충분한 양산 시스템이 갖춰진 것으로 평가합니다. 90%는 사실이라면 메모리 빅 3와 같은 수준으로 앞으로 대규모 캐파 확대와 더불어 CXMT의 양산 능력이 대폭 향상될 것으로 예상됩니다.
다만 기사에서 언급하는 17nm 공정이 정확히 어떤 공정인지가 다소 애매한데 CXMT는 1세대인 G1에서 19nm (DDR4 생산), G2에서 18nm, G3에서 17.5/17nm 공정을 달성했기 때문입니다. G3는 초기 DDR5 생산을 담당했고 현재 주력 공정은 16-17nm 공정인 G4로 알려져 있습니다. CXMT의 공정 및 차세대 공정 개발에 대해서는 이전 영상을 참조해 주시기 바랍니다 (1:20 이후)
G4는 G3대비 셀 크기를 20% 줄여 현재 DDR5와 LPDDR5x를 대량 양산하고 있기 때문에 어느 정도 목표 수율에 이미 도달한 상태로 보입니다. 90% 수율이 나왔다고 해도 크게 이상한 일은 아닙니다.
CXMT는 현재 다음 공정인 G5 개발에 집중하고 있는데 EUV 노광 장비가 없어 DUV 멀티 패터닝으로 이를 극복하고 LPDDR6 및 DDR6 개발에 나서고 있습니다. 다만 일부에서 주장한 것처럼 LPDDR6 양산에 다가선 것이 사실이면 초기 LPDDR6 물량은 이미 성숙한 노드인 G4일 가능성이 있습니다.
한편 중국내 스마트폰 제조사는 물론이고 글로벌 PC 제조사들도 하나씩 중국 내수 제품 위주로 CXMT 메모리를 채택하고 있다는 소식입니다. 에이서와 ASUS처럼 대만 기업들은 물론이고 HP 역시 일부 중국 내 제품에 CXMT 메모리를 사용하고 있어 주요 메이저 PC 제조사 가운데 사용하지 않는 기업은 델과 애플 뿐입니다.
아무래도 애플은 그 유명세 때문에 은근슬쩍 사용은 어렵고 계속 정부 상대 로비를 벌이고 있지만 미국 내 정치권의 반발이 심해 쉽지 않아 보입니다.
참고
댓글
댓글 쓰기