14 nm 공정 브로드웰이 막 정식 공개된 시점에서 점차 10 nm 공정에 대한 소식들도 들려오고 있습니다. 현재 로드맵에 의하면 브로드웰의 다음 프로세서는 14 nm 공정의 새 아키텍처 프로세서인 스카이레이크 (Skylake) 로 알려져 있습니다.
2015 년 등장하게 될 예정인 스카이레이크 이후로 2016 년에는 스카이레이크의 다이 쉬링크 모델이 등장하게 되는데 스카이몬트 대신 새로운 코드 네임으로 캐논레이크 (Cannonlake) 라는 명칭이 붙여 있습니다. 캐논레이크에 대해서는 현재까지 매우 제한적인 내용이 알려져 있는데 DDR4 전용이며 200 시리즈 칩셋인 유니온 포인트와 조합을 이룬다고 알려져 있을 뿐 정확한 내용은 공개되지 않았습니다.
(2011 - 2016 년 사이 인텔 CPU 로드맵 정리)
아무튼 캐논 레이크를 양산하기 위해서는 새로운 10 nm 공정 팹이 필요한데 최근 인텔은 이 10 nm 공정에 대해서 한가지 정보를 공개했습니다. 그 정보란 인텔 CEO 인 브라이언 크르자니크가 시티 글로벌 테크놀로지 컨퍼런스 (Citi Global Technology Conference) 에서 공개한 것으로 "우리들은 EUV 없이 10 nm 공정에 도달할 수 있다 (We know we can get through 10nm without EUV)" 라고 언급한 부분입니다. 이 말은 뒤집에서 10 nm 공정에 EUV 가 사용되지 않을 것이라는 이야기가 될 수 있습니다.
EUV (Extreme ultraviolet, 극자외선) 은 124 nm 에서 10 nm 파장을 지닌 고에너지 자외선으로 대략 10 - 124 eV 의 에너지를 지닌 광자를 가지고 있습니다. 이를 이용한 극자외선 리소그래피 (EUV Lithography) 향후 10 nm 공정 이하의 미세 공정에 사용될 것으로 알려져 있으나 현재 실제 개발에 여러가지 문제를 겪고 있는 중으로 실제 도입이 어느 시기에 이뤄질지는 지금 단언하긴 어려운 상태입니다.
아무튼 인텔이 450 mm 웨이퍼와 동시에 개발 중인 EUVL 에 대해서 언급한 점은 흥미롭습니다. 10 nm 공정에서 이 둘이 동시에 도입될 수 있을 것이라는 예측도 있었으나 이날 언급을 보면 적어도 인텔의 10 nm 공정은 그렇지 않을 가능성이 커졌습니다. 다만 벌써 10 nm 라고 생각하면 정말 인텔 본사 지하실 어디에서 고생하고 있을 외계인 (?) 이 생각나는 수치라고 할 수 있습니다.
14 nm 공정에서 보듯이 10 nm 공정 역시 천하의 인텔이라고 해도 연기나 지연될 가능성은 배제하기 힘듭니다. 하지만 결국은 머지 않은 미래에 10 nm 공정 CPU 가 우리 앞에 등장하게 될 것은 자명해 보입니다.
참고
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