Translate

2015년 2월 18일 수요일

새로운 오존층 파괴 물질



 오존층은 지표로 도달하는 해로운 자외선을 막는 중요한 역할을 하고 있습니다. 이에 대해서는 이전 포스트에서 상세하게 설명한 바 있죠. ( http://blog.naver.com/jjy0501/100142594928 참조) 몬트리올 의정서에서는 오존층 파괴의 주범인 CFCs 나 HCFCs 화합물들을 규제했는데 이 규제 자체는 성공적이었으나 일부 규제되지 않은 물질들이 있습니다. 최근 연구에 의하면 이 규제에서 빠졌던 오존층 파괴물질이 빠른 속도로 증가 중에 있어 이에 대한 추가 규제가 필요할지도 모른다고 합니다. 


(How VSLS depletes ozone.  Credit: University of Leeds)  

 새롭게 주목을 받는 오존층 파괴 물질은 ‘very short-lived substances’ (VSLS)이라고 분류되는 것입니다. 이 물질은 이름 처럼 대기중에서 빠르게 분해되는 물질로 디클로로메탄(dichloromethane) 같은 물질들입니다. 사실 과거부터 오존층을 파괴시킬 수 있다는 사실은 알고 있었으나 인위적으로 만들어지는 양이 적기 때문에 규제물질에 포함되지 않은 것입니다. 

 그런데 미 국립 해양 대기청(NOAA)와 리드 대학(University of Leeds)의 연구에 의하면 산업 공정에서 사용되는 디클로로메탄 같은 VSLS의 사용량이 급격히 증가해 오존층 파괴에 위험성이 있다는 점이 새롭게 밝혀졌습니다. 

 리드 대학의 라이언 호사이니 박사(Dr Ryan Hossaini, from the School of Earth and Environment at the University of Leeds)와 그의 동료들은 저널 네이처 지오사이언스(Nature Geoscience)에 발표한 논문에서 인공적으로 만들어진 디클로로메탄 같은 화학물질들이 빠른 속도로 증가해 전체 VSLS의 농도를 높이고 있으며 미래에 오존층 파괴 가능성을 높이고 있다고 발표했습니다. 

 현재까지 VSLS 의 대부분은 해조류처럼 자연적인 요인에 의해서 만들어졌습니다. 6개월이내의 짧은 수명을 가지는 물질이기 때문에 대부분 성층권으로 높이 날아가기 보다는 가장 낮은 층에 있는 오존들을 파괴시키는데, 본래 오존층은 자연적으로 생성되는 부분과 파괴되는 부분이 서로 균형을 맞추게 되어 있습니다. 

 그런데 인류가 산업 공정에서는 만드는 VSLS의 농도가 지난 수십년간 빠르게 증가해 오존 파괴 과정을 더 가속시킬 우려가 제기되는 것입니다. 아이러니하게도 디클로로메탄의 용도 가운데 하나는 오존층 파괴 물질인 HFCs의 대체 물질을 만드는 과정에서 사용되는 것입니다. 오존층을 보호하기 위한 제조 공정에서 오존층 파괴 물질이 나오는 것이죠. 

 다행히 아직 그 농도가 높지 않기 때문에 산업 공정에서 이의 배출을 억제하거나 배제한다면, 대기 중에서 곧 사라지는 물질인 만큼 프레온 가스 같은 장기적인 문제를 일으킬 가능성은 낮습니다. 미리 준비하고 대비한다면 미래에 생길 문제는 크지 않을 것 같습니다. 다만 현재 농도에서 실제 규제가 필요한지 좀 더 검토가 필요할 것으로 생각됩니다. 


 참고 

Journal Reference:
  1. R. Hossaini, M. P. Chipperfield, S. A. Montzka, A. Rap, S. Dhomse, W. Feng.Efficiency of short-lived halogens at influencing climate through depletion of stratospheric ozoneNature Geoscience, 2015; DOI: 10.1038/ngeo2363

댓글 없음:

댓글 쓰기