2030년까지 28nm 공정 반도체 자체 생산을 목표로한 러시아

(Image credit: MCST)

서방의 제재에 시달리는 러시아가 자력 갱생을 위해 자체 반도체 생산 능력을 대폭 업그레이드 하겠다는 나름 야심찬 계획을 발표했습니다. 러시아 정부는 2030년까지 IT 인프라 내재화를 위해 3조1900억 루블을 투자할 계획입니다. 대략 현재 가치로 48조원 정도인데, 루블화 가치가 폭락하는 중이기 때문에 미래 가치는 더 낮아질 수 있습니다.

이 자금 가운데 420억 루블이 반도체 팹 건설에 들어가는데, 우선 올해 말까지 90nm 공정 팹을 완성하는 것이 목표입니다. 러시아의 자체 반도체 생산 기업인 미크론(Mikron)의 최신 미세 공정이 90nm로 현재 65nm 조차 러시아의 능력으로는 버거운 상태이기 때문입니다. 이런 이유로 앞서 중국 파운드리를 검토하고 있다는 이야기가 나오기도 했습니다. 다만 미국의 2차 제재와 아직 빈약한 중국의 반도체 생산 능력을 생각하면 이것 역시 가능성은 높지 않다는 게 일반적인 평가입니다.

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2030년까지 목표도 28nm 공정에 도달하는 것으로 나름 소박하지만, 사실 러시아 단독으로 시도한다면 상당히 야심찬 계획입니다. 노광 장비 등 반도체 핵심 생산 시설과 양산에 필요한 여러 가지 소재 역시 대부분 수입에 의존하고 있기 때문입니다.

사실 28nm 미세 공정을 100% 러시아 자력으로 도달하기는 상당히 어려워 보입니다. 중국이 도움을 줄 수 있지만, 중국 역시 필요한 모든 장비와 소재를 자체 생산하지는 못합니다. 여기에 중국 스스로도 어려움을 겪는 분야가 바로 반도체입니다.

그래도 다른 대안이 없기 때문에 어떻게든 시도를 해보는 것이겠지만, 요즘 시대에 우리식 IT 인프라를 구축하려는 시도는 사실 성공 가능성이 희박해 보입니다. 러시아의 IT 산업과 인프라는 서방 제재로 인해 크게 후퇴하게 될 것으로 예상됩니다.

참고

https://www.tomshardware.com/news/russia-semiconductor-plan-28nm

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